產(chǎn)品中心
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BFW三面觀察窗箱式爐集控值系統(tǒng)與爐膛于一體。爐膛本身采用高純氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型,加熱元件為電阻絲。散熱系統(tǒng)采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu),爐體表面溫度≤60℃。采用宇電控溫儀和K型熱電偶,可編程30段程序控溫,控溫精度±1℃。設(shè)備有三面觀察窗,可實時觀察反應(yīng)狀態(tài),并可配合高速相機拍照記錄。
1500單溫區(qū)管式爐采用硅碳棒為加熱元件,額定溫度1400℃,最高溫度可達(dá)1450℃。采用宇電控溫儀表和S型熱電偶,可編程30段程序控溫,控溫精度±1℃。設(shè)備中包含一套316L不銹鋼快開法蘭,雙環(huán)密封技術(shù),可應(yīng)用于CVD實驗、熒光粉制備、真空或氣氛下材料燒結(jié)、基片鍍膜等實驗環(huán)境。
1700單溫區(qū)管式爐是一款小型高溫管式爐,其加熱元件采用1800級硅鉬棒。升溫和降溫由30段程序進行控制,最高溫度可以達(dá)到1700℃。此款高溫爐可以廣泛地用于材料的燒結(jié)或是退火(在真空或是惰性氣體保護狀態(tài)下)。管式爐爐體表面溫度≤60℃,爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬,非金屬及其它化合物進行燒結(jié)﹑熔化
1500開啟式單溫區(qū)管式爐采用硅碳棒為加熱元件,額定溫度1400℃,最高溫度可達(dá)1500℃。采用宇電AI-3756P觸摸屏控溫儀和S型熱電偶,可編程30段程序控溫,控溫精度±1℃。設(shè)備中包含一套316L不銹鋼快開法蘭,雙環(huán)密封技術(shù),可應(yīng)用于真空或氣氛下燒結(jié)、基片鍍膜等實驗環(huán)境。內(nèi)置雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu),表面溫度≤60℃。法蘭兩端加配支架,減輕爐管負(fù)重,保證爐管使用壽命。
微型回轉(zhuǎn)管式爐TFR-1200-30- 220是一款小型單溫區(qū)回轉(zhuǎn)爐,采用雙層殼體結(jié)構(gòu),并帶有風(fēng)冷系統(tǒng),內(nèi)部通過電機驅(qū)動爐管轉(zhuǎn)動,轉(zhuǎn)速低,旋轉(zhuǎn)更平穩(wěn)。爐管采用異型石英管,內(nèi)部焊接有揚料板,可使粉體燒結(jié)更加充分和均勻。
TFR實驗級回轉(zhuǎn)爐集控值系統(tǒng)與爐膛于一體。爐膛本身采用高純氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型,加熱元件為電阻絲。散熱系統(tǒng)采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu),爐體表面溫度≤60℃。真空腔室采用石英管材質(zhì),其貫穿整個爐體,爐管兩端選用不銹鋼法蘭密封,可在真空或氣氛環(huán)境下工作。加熱元件與爐管平行,均勻的分布在爐管外,有效地保證了溫場的均勻性。兩邊附有回轉(zhuǎn)機構(gòu),使?fàn)t管勻速轉(zhuǎn)動,可保證物料充分反應(yīng)。